MAPPER ontwikkelt een maskerloze lithografie machine welke gebaseerd is op het gebruik van vele parallele electronen bundels. Het eerste product, de FLX-1200, is geïnstalleerd bij CEA-Leti in Grenoble (Frankrijk). Dit systeem heeft 65.000 parallelle elektronenbundels, wat het mogelijk maakt om een productiviteit van 1 wafer per uur te realiseren voor 300mm wafers. De resolutie van het systeem is in lijn met de 28nm technologie node. Het systeem heeft een optisch alignment systeem dat mix-en-match mogelijk maakt met een optisch 193 nm-immersiesysteem. Tijdens de presentatie zal het machine concept besproken worden, en zullen resultaten getoond worden van de machine bij CEA-Leti.